超声波清洗机在玻璃硅片清洗中的运用

　　超声波清洗机在玻璃硅片清洗中的运用很广泛，在半导体器件玻璃硅片的生产过程中，对产品的洁净度有极为严格的要求，即便是微量污染也可能会导致器件的失效，而可用于清洗玻璃硅片的超声波清洗机则可以达到有效的清洗，在配合使用有效的清洗剂，不管是有机的还是无机的污染杂质都可以一并清除。

　　在玻璃硅片的生产加工中，其表面的污染杂质极为复杂，既有有机污染物包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡、油脂或纤维；也有无机污染物包括重金属金、铜、铁、铬等；还有颗粒污染包括硅渣、尘埃等。这些污染物有的以原子或离子状态呈现，有的以薄膜或颗粒形式存在于硅片表面上，传统的清洗方法都难以有效清除。

　　玻璃硅片超声波清洗机清洗是一种环保的水基清洗工艺，设备采用全封闭式的结构，其内部运行的设备为具有针对性，有效防止交叉污染，比如清洗区域与维护区域是隔离的，以确保润滑油脂及运动磨损不会对所清洗的玻璃硅片产生二次污染。另外这种设备的工作室是长期处于洁净的状态，从而确保极高的清洁度。

玻璃硅片超声波清洗机应用范围
　　在实际生产作业中，多槽式超声波清洗机可以完成从粗洗、精洗到烘干一整个流程，除了适用于半导体器件清洗如玻璃硅片，也适用于水晶、光学玻璃、蓝宝石等。此外，超声波清洗设备在五金配件清洗中的使用越来越广也是显而易见的。